Elektronenmikroskopie

Seit der Gründung der Arbeitsstelle für Elektronenmikroskopie, des späteren Instituts für Festkörperphysik und Elektronenmikroskopie der Akademie der Wissenschaften der DDR im Jahre 1960, ist die Elektronen- und ionenstrahl-basierte Mikrostrukturdiagnostik ein wesentlicher Forschungsschwerpunkt in Halle (Saale). Untrennbar verbunden sind die Elektronenmiroskopie und ihre Anwendungen mit dem Namen Heinz Bethge.

Aus diesem Anlass fand am 15. und 16.11.2010 ein Bethge-Kolloquium statt, welches sich der fünfzigjährigen Geschichte der Elektronenmikroskopie in Halle (Saale) widmete.

Bethges Elektronenmikroskop

Das erstes Elektronenmikroskop, welches Heinz Bethge an der Universität Halle 1951 entwickelte.

JEOL „JEM 1000“

Das JEOL JEM 1000 ist ein Höchstspannungselektronenmikroskop mit einer Spannung von 1 Mio. Volt. Es wurde 1971 als erstes Gerät dieser Art in Deutschland installiert.

FEI „TITAN“

Das TITAN der Firma FEI ist ein hochauflösendes analytisches Transmissionselektronenmikroskop, installiert im Jahr 2008.

Transmissionselektronenmikroskop „LEO 912 OMEGA“ von Zeiss

  • Energiefilterndes TEM mit integriertem OMEGA-Spektrometer
  • Beschleunigungsspannung: 60-120 kV
  • Vergrößerung: 80-500.000fach
  • Auflösung: 0,37 nm (Punktauflösung)
  • Rastereinheit mit SE- und RE-Detektor, Hell- und Dunkelfeld-Detektor
  • CCD-Kamera (2×2 k)

Atmosphärisches Rasterelektronenmikroskop „ESEM XL30“, FEI

  • Beschleunigungsspannung: 200 V - 30 kV
  • Vergrößerung: 38-600.000fach
  • Auflösung: 2,0 nm
  • Energiedispersive Röntgen Mikroanalyse
  • Arbeitsdruck im ESEM-Mode: 0,1 bis 10 Torr
  • Bildverarbeitungssystem

Elektronenmikroskope auf dem Weinberg-Campus (Art/Bezeichnung)

Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik

  • Öffnungsfehlerkorrigierte analytische TEM: FEI Titan 300
  • Hochauflösungs-TEM: JEM 4010
  • In-situ-TEM: JEM 4000EX
  • Analytische TEM: 2x Philips CM 20
  • TEM: JEM 1010
  • Hochauflösungs-REM: JSM 7500F, JSM 6701F, JSM 6400, JSM 6390LV
  • Dualbeam FIB: FEI Nova 600 Nanolab
  • Elektronenstrahllithographie: JSM 600 + Raith Quantum, JBX 6300 FS

Fraunhofer-Institut für Werkstoffmechanik

  • Öffnungsfehlerkorrigierte analytische TEM: FEI Titan3 G2 60-300 (ab 2011)
  • Analytisches TEM: Philips CM 20, Tecnai F20 G2 (ab 2010)
  • Analytisches REM: Supar 55VP
  • Analytisches REM :JSM 7401F, Hitachi SU 70
  • In-situ-ESEM: Quanta 650 FEG
  • Crossbeam FIB: Zeiss Nvision 40, Zeiss Crossbeam 1540 ESB
  • Kryo-ESEM-FIB: FEI Quanta 3 DFEG
  • Time of Flight Massenspektroskopie: TOF.SIMS 5

Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg

  • Dedicated STEM: VG HB 501UX
  • Energiegefilterte TEM: JEM 2010, LEO 912
  • Hochauslösungs-REM: JSM 6400, JSM 6300, JSM 6700F
  • Hochauflösungs-ESEM: Philips XL30 ESEM FEG

Präparationstechniken

  • Oberflächenätzen
  • FIB
  • Ultramikrotomie